Optimasi Konsentrasi Na-CMC Sebagai Basis Patch Antiacne yang Mengandung Ekstrak Etanol Daun Jambu Biji (Psidium guajava L.)

Jerawat merupakan penyakit kulit obstruktif dan inflamatif yang terjadi pada pilosebasea, salah satunya disebabkan oleh Propionibacterium acnes. Daun jambu biji (Psidium guajava L.) mengandung senyawa flavonoid yang memiliki khasiat antibakteri sehingga dapat diformulasikan menjadi sediaan acne patch. Sebelumnya telah dilakukan penelitian tentang pembuatan sediaan patch antiacne yang mengandung ekstrak daun jambu biji menggunakan polimer HPMC, namun sediaan patch yang dihasilkan terlalu tipis dan mudah rusak. Oleh karena itu, dicari alternatif polimer lain yang bisa digunakan sebagai basis sediaan patch yaitu Na-CMC. Tujuan dari penelitian ini adalah mendapatkan konsentrasi yang optimal dari Na-CMC sebagai polimer dalam pembuatan patch yang mengandung ekstrak daun jambu biji. Basis patch dioptimasi dengan variasi konsentrasi Na-CMC 3% (B1), 4% (B2) dan 5% (B3). Lalu dilakukan optimasi konsentrasi ekstrak daun jambu biji yaitu F1 ekstrak 4%; F2 ekstrak 8%; F3 ekstrak 12%. Sediaan acne patch yang telah dibuat kemudian dievaluasi stabilitas fisik meliputi organoleptik, keseragaman bobot, ketebalan, ketahanan lipat, susut pengeringan, daya serap lembab, pH, % elongation dan water absorption. Uji aktivitas antiacne dilakukan terhadap Propionibacterium acnes menggunakan metode difusi cakram. Hasil penelitian menunjukan bahwa sediaan acne patch dengan konsentrasi yang paling optimal berdasarkan evaluasi mutu dan aktivitas antibakterinya yaitu F2 dengan Na-CMC 3% dan kandungan ekstrak 8%. Hasil uji aktivitas F3 menunjukan aktivitas yang paling tinggi terhadap P.acnes dengan diameter hambat 15,83 mm.